G-43D4型高精密單面光刻機

一、設(shè)備概述

G—43D4型光刻機是根據(jù)高等學(xué)府需求研發(fā)的產(chǎn)品，可以做100X100mm以下基片，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻。它特別適用進行一次光刻的產(chǎn)品,可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等。按用戶要求可提供圓形承片臺或方形承片臺,不管哪一種承片臺，如果基片厚度≤2mm，承片臺都能實現(xiàn)“真空密著”曝光,加之光均勻性好，所以大大提高光刻質(zhì)量。

二、主要技術(shù)參數(shù)

1、操作方式：手動；

2、曝光模式：接觸式一次曝光；

3、光斑尺寸：Ф102mm，配置4"LED專用曝光頭，光源質(zhì)保期：1年；

4、紫外光中心波長：365nm；

5、基片厚度≤5mm。（需要分級，每級級差1mm）；

6、分辨率：1um（所需條件見后面附件1）；

7、光的均勻性：≥97%（測量儀器：光強計；測量方法：逐點檢測法）；

8、樣品尺寸：Φ100mm（標(biāo)配）；

9、曝光強度：≤30mw/cm²，（此指標(biāo)用紫外光源I線365nm測量）；

10、電源：單相AC220V  50HZ ，功耗≤1.5KW；

11、潔凈空氣壓力：≥0.4MPa；

12、真空度：-0.07MPa~-0.09MPa；