近日疫情在國(guó)外一些**爆發(fā)，荷蘭這一**的防護(hù)物質(zhì)不夠想向中國(guó)訂購(gòu)，網(wǎng)絡(luò)上就出現(xiàn)了一片呼聲建議荷蘭用光刻機(jī)來(lái)?yè)Q。這是為什么呢？光刻機(jī)到底有什么魔力是用來(lái)干什么的呢？和成都光刻機(jī)廠家一起往下了解一下吧。

一、光刻機(jī)是干嘛的？

光刻機(jī)就是個(gè)“投影儀”，把我們想要的影子投影到幕布上。芯片那么精細(xì)，是怎么生產(chǎn)出來(lái)的呢？用刀刻？用水沖？都不行，因?yàn)樾酒?xì)了，動(dòng)輒幾十nm的線條，日常沒有什么材料能做成這么精細(xì)的刻刀。所以我們就想了一個(gè)辦法，用光線來(lái)刻，這也就是光刻機(jī)。怎么個(gè)用光刻法呢？我們都用過(guò)膠卷相機(jī)吧，膠片平日里是黑色的，不能見光的，一旦見光就會(huì)變白，我們也找了一種一見光就“易溶解”的特殊膠片。當(dāng)我們想要在芯片上刻一個(gè)圓圈的時(shí)候，我們就在芯片上涂上這種特殊膠片，拿一個(gè)圓圈光照上去，再經(jīng)過(guò)一些列后續(xù)處理，我們?cè)谶@個(gè)芯片上就做出了一個(gè)圓圈圖形了對(duì)吧。光刻機(jī)就是用這種膠片來(lái)刻出圖形的。剩下的問(wèn)題是，我們?cè)趺窗岩环N我們想要的特定圖形打到膠片上呢？我們見過(guò)老式投影儀吧，原理跟皮影戲是一樣的，做一個(gè)“剪紙”，拿燈光一照，這個(gè)剪紙就映在幕布上了。我們也想辦法在光刻機(jī)里做了這樣的“剪紙”，拿光源一照，這個(gè)剪紙就映在膠片上了。以上就是光刻機(jī)的通俗理解。

二、光刻機(jī)原理 光刻機(jī)（Mask Aligner) 又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。

常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫 Mask Alignment System. 一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。 Photolithography（光刻） 意思是用光來(lái)制作一個(gè)圖形。 在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過(guò)程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上的過(guò)程。 下面，簡(jiǎn)單介紹一下圖中各設(shè)備的作用。 1、測(cè)量臺(tái)、曝光臺(tái)：承載硅片的工作臺(tái)，也就是本次所說(shuō)的雙工作臺(tái)。 2、光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。 3、能量控制器：控制*終照射到硅片上的能量，曝光不足或過(guò)足都會(huì)嚴(yán)重影響成像質(zhì)量。 4、光束形狀設(shè)置：設(shè)置光束為圓型、環(huán)型等不同形狀，不同的光束狀態(tài)有不同的光學(xué)特性。 5、遮光器：在不需要曝光的時(shí)候，阻止光束照射到硅片。

6、能量探測(cè)器：檢測(cè)光束*終入射能量是否符合曝光要求，并反饋給能量控制器進(jìn)行調(diào)整。 7、掩模版：一塊在內(nèi)部刻著線路設(shè)計(jì)圖的玻璃板，貴的要數(shù)十萬(wàn)美元。 8、掩膜臺(tái)：承載掩模版運(yùn)動(dòng)的設(shè)備，運(yùn)動(dòng)控制精度是nm級(jí)的。 9、物鏡：物鏡由20多塊鏡片組成，主要作用是把掩膜版上的電路圖按比例縮小，再被激光映射的硅片上，并且物鏡還要補(bǔ)償各種光學(xué)誤差。技術(shù)難度就在于物鏡的設(shè)計(jì)難度大，精度的要求高。 10、硅片：用硅晶制成的圓片。硅片有多種尺寸，尺寸越大，產(chǎn)率越高。題外話，由于硅片是圓的，所以需要在硅片上剪一個(gè)缺口來(lái)確認(rèn)硅片的坐標(biāo)系，根據(jù)缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、notch。 11、內(nèi)部封閉框架、減振器：將工作臺(tái)與外部環(huán)境隔離，保持水平，減少外界振動(dòng)干擾，并維持穩(wěn)定的溫度、壓力。

三、認(rèn)清光刻機(jī)性能指標(biāo)

1、光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對(duì)準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長(zhǎng)、光強(qiáng)均勻性、生產(chǎn)效率等。 2、分辨率是對(duì)光刻工藝加工可以達(dá)到的*細(xì)線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。 3、對(duì)準(zhǔn)精度是在多層曝光時(shí)層間圖案的定位精度。 4、曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。 5、曝光光源波長(zhǎng)分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域，光源有汞燈，準(zhǔn)分子激光器等。

四、光刻機(jī)作用

光刻機(jī)是微電子整備的空頭，其具有技術(shù)難度*高、單臺(tái)成本*大、決定集成密度等特點(diǎn)。

**的內(nèi)容就到這里啦。希望讓您對(duì)光刻機(jī)有一定的了解。成都鑫南光機(jī)械設(shè)備有限公司專業(yè)提供在微電子工藝生產(chǎn)方面使用的多種型號(hào)光刻機(jī)；在真空釬焊、陶瓷金屬化、燒氫退火工藝等方面使用的各型真空爐、氫氣爐；在零件真空干燥（儲(chǔ)存）柜、真空鍍膜機(jī)等設(shè)備的設(shè)計(jì)和制造方面，公司均有自己獨(dú)特的專長(zhǎng)。 歡迎大家致電我司了解詳情!