四川光刻機之G-25XA型高精密光刻機的產(chǎn)品介紹：

一、 設(shè)備的主要用途及特點

本設(shè)備主要適用于對Φ100mm以下，厚度為5mm以下的各種基片光刻（包括非常規(guī)基片、碎片及表面不平整基片）

二、主要技術(shù)指標(biāo)

1、對準(zhǔn)精度：±0.5μm。

2、微動臺掃描范圍±20mm，X、Y可調(diào)范圍±4mm。

3、承片臺上下可移動范圍為5mm，旋轉(zhuǎn)角度*大為90°。

4、采用多點光源曝光頭，光源采用GCQ200Z型**壓直流球形汞燈，風(fēng)冷，（光強穩(wěn)定可調(diào)，不用頻繁更換汞燈），光的不均勻性≤±6%(Φ100 mm范圍之內(nèi)) ，*大出射光束為Φ120mm。

5、采用雙目分離視場顯微鏡，放大倍數(shù)50X×375X(可采用雙CCD加液晶監(jiān)視器來顯示，放大倍數(shù)30～189X或67.5X～420X)。

成都鑫南光機械設(shè)備有限公司是一家專業(yè)從事四川真空泵,四川光刻機,四川氫氣爐生產(chǎn)及銷售批發(fā)工作的企業(yè),咨詢電話:13908187709,028-85730519,擁有**的技術(shù)裝備和獨特的設(shè)計,具有豐富的專用設(shè)備裝配調(diào)試技術(shù)和經(jīng)驗。