光刻機(jī)（Mask Aligner）是制造微機(jī)電、光電、二極體大規(guī)模集成電路的關(guān)鍵設(shè)備。其分為兩種，一種是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時(shí)模板緊貼晶圓；另一種是利用類似投影機(jī)原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。接下來小編就給大家介紹一下四川光刻機(jī)的種類一起來看看吧。

a.接觸式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當(dāng)，設(shè)備簡單。接觸式，根據(jù)施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸。

1.軟接觸 就是把基片通過托盤吸附?。愃朴趧蚰z機(jī)的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面；

2.硬接觸 是將基片通過一個(gè)氣壓（氮?dú)猓?，往上頂，使之與掩膜接觸；

3.真空接觸 是在掩膜和基片中間抽氣，使之更加好的貼合（想一想把被子抽真空放置的方式）

軟<硬<真空 接觸的越緊密，分辨率越高，當(dāng)然接觸的越緊密，掩膜和材料的損傷就越大。

缺點(diǎn)：光刻膠污染掩膜板；掩膜板的磨損，容易損壞,壽命很低（只能使用5～25次）；容易累積缺陷；上個(gè)世紀(jì)七十年代的工業(yè)水準(zhǔn)，已經(jīng)逐漸被接近式曝光方式所淘汰了，國產(chǎn)光刻機(jī)均為接觸式曝光，國產(chǎn)光刻機(jī)的開發(fā)機(jī)構(gòu)無法提供工藝要求更高的非接觸式曝光的產(chǎn)品化。

b.接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板與光刻膠基底層保留一個(gè)微小的縫隙（Gap），Gap大約為0～200μm?？梢杂行П苊馀c光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷，使掩膜和光刻膠基底能耐久使用；掩模壽命長（可提高10 倍以上），圖形缺陷少。接近式在現(xiàn)代光刻工藝中應(yīng)用非常廣泛。

c.投影式曝光（Projection Printing）:在掩膜板與光刻膠之間使用光學(xué)系統(tǒng)聚集光實(shí)現(xiàn)曝光。一般掩膜板的尺寸會(huì)以需要轉(zhuǎn)移圖形的4倍制作。

優(yōu)點(diǎn)：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影響減小。

以上內(nèi)容就是小編給大家介紹的四川光刻機(jī)的種類，希望對大家有所幫助。成都鑫南光機(jī)械設(shè)備有限公司專業(yè)提供在微電子工藝生產(chǎn)方面使用的多種型號光刻機(jī)；在真空釬焊、陶瓷金屬化、燒氫退火工藝等方面使用的各型真空爐、氫氣爐；在零件真空干燥（儲(chǔ)存）柜、真空鍍膜機(jī)等設(shè)備的設(shè)計(jì)和制造方面，公司均有自己獨(dú)特的專長。