G-43B4型高精密單面光刻機

一、設(shè)備概述:

本設(shè)備是我公司根據(jù)市場需求研發(fā)的產(chǎn)品，通常情況下可曝光基片尺寸為：Φ4"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻，它特別適用做一次光刻的產(chǎn)品，可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等，此設(shè)備曝光不均勻性：（在Φ100范圍內(nèi)≤4%），所以大大提高了設(shè)備的光刻質(zhì)量。

曝光頭及部件圖

二、主要技術(shù)指標(biāo)

1.操作方式：手動；

2.曝光模式：接觸式曝光；

3.曝光面積：Φ4"；

4.紫外光源：g線（436nm）或i線（365nm）；

5.曝光分辨率：3um；

6.曝光頭汞燈為GCQ350W型高壓直流球形汞燈；

7.電源：單相AC220V  50HZ ，功耗≤1.5KW；

8.真空度：-0.07MPa~-0.09MPa；

9.尺寸和重量：

尺寸：機體1000 mm（長）×720 mm（寬）×1600mm（高）。

重量：≤160Kg；